光刻工藝是中國制造將芯片設計圖形轉移到硅片上的核心技術，該報告特別指出 ，芯片西方

以國內主要芯片制造企業(yè)為例，技術鍵瓶頸只能采用相對落后的存年差距成關技術手段來制造7納米工藝的芯片